КИТАЙ Титановый плесени Цель 100*45 мм 100*40 мм Ti Ti-Al Zr Cr Для ПВД покрытия

Титановый плесени Цель 100*45 мм 100*40 мм Ti Ti-Al Zr Cr Для ПВД покрытия

Материалы: титан
Уровень: Ранг 1
Слишком много: 90-600mm
КИТАЙ Титановые диски 98х10 мм, 98х12 мм, 98х20 мм для искусственного зуба

Титановые диски 98х10 мм, 98х12 мм, 98х20 мм для искусственного зуба

Размер: Настраиваемый
Тип цели: вращающийся
Плотность: Настраиваемый
КИТАЙ 99.995% Чистота Титановый Путтерный Цель ПВД Покрытие вращающиеся трубки Цели

99.995% Чистота Титановый Путтерный Цель ПВД Покрытие вращающиеся трубки Цели

Наименование продукта: Цели титановых труб
Материал: Чистый титан Grade 1
Чистота: 99.9%-99.999%
КИТАЙ Цель ПВД металлического распыливания 100x40 мм

Цель ПВД металлического распыливания 100x40 мм

Размер зерна: < 100мм
Тип: брызгать цель
Технические: Выкованный свертывать, CNC
КИТАЙ OEM PVD 5N+ 99,9995% Титановые цели Полупроводниковые цели высокой чистоты Тонкие пленки

OEM PVD 5N+ 99,9995% Титановые цели Полупроводниковые цели высокой чистоты Тонкие пленки

Наименование продукта: Полупроводниковый титановый материал
Чистота: 5N+(99,9993%-99,9995%)
Размер зерна: < 100мм
КИТАЙ 990,9% - 99,999% Чистота Осаждение тонкой пленкой Титановые цели 3N-5N Титановые цели для распыливания

990,9% - 99,999% Чистота Осаждение тонкой пленкой Титановые цели 3N-5N Титановые цели для распыливания

Наименование продукта: Титановые цели для отложения тонкой пленки
Материал: чистый титан
Чистота: 3N-5N
КИТАЙ 99.99% чистота металлическая цель с полированной кристаллической поверхностью

99.99% чистота металлическая цель с полированной кристаллической поверхностью

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
КИТАЙ Металлическая мишень на заказ для распыливания покрытий Одно или несколько конфигураций Ra 0,8 Um

Металлическая мишень на заказ для распыливания покрытий Одно или несколько конфигураций Ra 0,8 Um

Coating Method: Sputtering
Technique: Forged And CNC Machined
Target Configuration: Single Or Multiple
КИТАЙ Цель для распыливания индиевого сплава с индивидуальными субстратами, полированными и анодированными

Цель для распыливания индиевого сплава с индивидуальными субстратами, полированными и анодированными

Target Bonding: Indium
Substrate Compatibility: Customized
Surface Roughness: Ra < 0.8 Um
1 2 3 4